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Autor |
MOSFET-pinch-off |
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wolfgang6444
Neu  Dabei seit: 29.04.2018 Mitteilungen: 1
 | Themenstart: 2018-04-29
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Ich verstehe die Physik des pinch-off im MOS-FET bei Saettigung nicht:
Nehmen wir einen N-kanal-FET:
Bei hinreichend hoher gate-Spannung wird das Substrat (zumindest nahe am Source) invertiert (n-leitend) und die Elektronen koennen von der source aus
als Majoritaeten als Feldstrom Richtung Drain fliessen.
Das Potential im Kanal steigt aber in Richtung Drain und irgendwann reicht die Spannungsdifferenz Gate-Kanal fuer eine Inversion nicht mehr aus und es entsteht eine Verarmungszone.
Warum fliesst der Elektronen-Strom durch diese Verarmungszone?
Ich haette argumentiert wir haben (vom source aus) eine Schichtenfolge
N(source) - N (Kanal) P(pinch-off-Bereich) N(drain).
Das sollte doch sperren.
Was ist an meiner Analogie falsch?
Wolfgang
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 | Beitrag No.1, eingetragen 2018-04-30
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Moin und willkommen im Forum
\quoteon(2018-04-29 16:06 - wolfgang6444 im Themenstart)
Warum fliesst der Elektronen-Strom durch diese Verarmungszone?
\quoteoff
Weil sie durch die hohe Spannungsdifferenz im verkürzten Inversionskanal immer noch so stark beschleunigt werden, dass sie durch die Raumladungszone durch driften können.
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